Giới thiệu về lớp phủ chân không mạ PVD
Mạ PVD là gì ? PVD là chữ viết tắt của Physical Vapor Deposition trong tiếng Anh, dùng để chỉ việc sử dụng công nghệ phóng điện hồ quang điện áp thấp và dòng điện cao trong điều kiện chân không để làm bay hơi vật liệu mục tiêu và ion hóa chất và khí bay hơi. Sử dụng gia tốc của điện trường, chất bay hơi và các sản phẩm phản ứng của nó được lắng đọng trên phôi. Phủ nano PVD thường được gọi là: mạ titan, mạ titan chân không, mạ crom, gia công xi mạ titan, mạ titan PVD, mạ nano titan, phủ nano, gia công xi mạ titan chân không, phủ chân không, xử lý bề mặt, v.v.... Giới thiệu về lớp phủ chân không mạ PVD 1. Nguyên tắc của công nghệ phủ PVD Công nghệ phủ PVD (phủ ion), nguyên tắc cụ thể là sử dụng điện áp thấp và dòng điện cao trong điều kiện chân không. Công nghệ phóng điện hồ quang sử dụng phóng điện khí để làm bay hơi vật liệu mục tiêu và ion hóa chất và khí bị bắn tung tóe. Gia tốc của điện trường được sử dụng để làm Nhiệt độ, áp suất cao làm bay hơi các ion và phản ứng của nó được lắn...